Labore

Technologielabor (Reinraum)

Reinraumbereich Lithografie ( Reinraumklasse 1000 / ISO 6; Gelblicht)

• Nassprozessbank mit Spincoater, Hotplate, Ultraschallreinigung und Millipore Reinstwasseranlage
• Mask Aligner Suss MJB3
• optisches Zeiss-Mikroskop mit Kamera
• Rasterelektronenmikroskop Cambridge mit Elphy eBeam Belichtungserweiterung
• mobiles Rasterkraftmikroskop
• Profilometer Dektak

• Aufdampfanlage für definierte Winkelabscheidung
• Plasmacleaner / -ätzer (Sauerstoff, Argon)
• UV/VIS Spektrometer von Perkin Elmer
• Gloveboxsystem mit integriertem Kühlschrank, Spincoater, Vakuumofen und UV-Belichtung unter Laminarflow mit Kühlung
• Kombinierte Leybold Univex Sputter- und e-Beam Anlage mit Glovebox-Loadlock
• Glovebox mit integrierter Anlage zur organischen MBE Dünnschichtdeposistion - Lesker Spectros
• Glovebox mit Oriel Solarsimulator und vollautomatischem Charakterisierungssystem für organische Bauelemente      

• Ball Bonder von K&S
• 2 Chemieabzüge
• Reinstwasseranlage
• Vollautomatisches Filmziehgerät (Rakel) von Fa. Zehntner

Laborübersicht

Laserlabor

Interferenz- Lithographie

• Gitterperioden von 180 nm oder größer homogen belichtete Fläche von 3“

Lasermessplatz

• Wellenlänge: 355 nm, 532 nm und 1064 nm
• Pulsdauer: < 1 ns
• Pulsenergie: bis zu 4 μJ/Puls
• Repititons Rate: 0- 20 kHz

Wellenleitermessplatz

• Wellenlängenbereich 1500 bis 1600 nm
• Einkopplung in Stirnflächen ab 3 μm2

Wellenleiterdämpfungsmessplatz

Akustische Oberflächenwellen

• Anregung akustischer Oberflächenwellen mit Frequenzen bis zu 20 GHz

• Strukturgrößen von 200nm bis 1μm
• dreidimensionale Strukturierung

• Wellenlängenbereich: 350 - 2000 nm

• Messung der differentiellen Transmission an organischen Proben bis zu ΔT/T = 10-6
• Erzeugung eines Weißlichtkontinuums in einer „Tapered Fiber“

Laser-Speckle Messplatz

Einzelmolekülspektroskopie

Informationsplakat